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２００８年０２月号（特許法等の一部を改正する法律案について）
2008/02/15
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特許業務法人
小野国際特許事務所メールニュース
２００８年２月号
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特許法等の一部を改正する法律案について
平成２０年２月１日付けで、「特許法等の一部を改正する法律案」が閣議決定されました。
このたびの法改正には、通常実施権等登録制度の見直し、不服審判請求期間の見直し、
特許・商標関係料金の引き下げ、などが含まれています。
上記のうち、通常実施権等登録制度の見直しによって、特許の出願段階におけるライセンス
（他者への実施許諾）の登録が可能となります。このような登録の法的効果としては、
ライセンシーの第三者に対する対抗力を挙げることができます。
つまり、特許を受ける権利が譲渡されても、ライセンシーは譲受人（新権利者）に対抗でき、
また、特許を受ける権利者が破産した場合でも、ライセンシーはライセンス契約を解除され
ないなどの利点があります。
しかしなんといっても、事業者の方々に直接大きな影響を及ぼすのは、料金引き下げに関する
改正だと思われます。
具体的にみていくと、特許料の引き下げは平均１２％とそれほど目立ったものではありませんが、
商標の登録料の引き下げ幅は大きく、設定登録料６６，０００円（現行）→３７，６００円
（改正案）、更新登録料１５１，０００円（現行）→４８，５００円（改正案）となって
います（平均４３％の引き下げ）。
従来、商標を更新登録すると、特許庁に対する登録料が高すぎて新規に出願しなおしたほうが
安くあがるなどという逆転現象が起きていましたが、今回、商標の更新登録に要する登録料が
従来の３分の１程度に引き下げられることになれば、更新時の費用負担は大幅に軽減されること
になります。もちろん、設定登録時の登録料も、現行の半額とまではいかないものの、かなり
安くはなっていますので、中小企業や個人の方にも、商標制度がより利用しやすくなるのでは
ないかと期待しています。
改正案の詳細については、下記特許庁ホームページをご参照下さい。
http://www.jpo.go.jp/torikumi/kaisei/kaisei2/tokkyohoutou_kaiei_200201.htm
このトピックに関してご質問等がございましたら、弊所鶴目までお問い合わせ下さい。
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場所：那覇市IT創造館
２月２９日（金）１３：００〜１６：００ 地域地財専門セミナー
場所：�螢肇蹈團�ルテクノセンター３F
３月 ４日（火）１３：００〜１７：００ 発明無料相談会
場所：発明協会沖縄県支部
３月 ７日（金）１３：００〜１７：００ 発明無料相談会
場所：発明協会沖縄県支部
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３月の滞在予定 ２月２９日（金）〜 ３月７日（金） 弁理士 小野 信夫
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