平成19年4月1日に特許法、意匠法および商標法の一部改正が行われます。主な改正点は次の通りです。
(1)特許法の一部改正
・ 補正制度の見直し(特許法第17条の2等)
・ 分割出願制度の見直し(特許法第44条等)
・ 外国語書面出願の翻訳文提出期間の延長(特許法第36条の2第2項等)
(2)意匠法の一部改正
・ 画面デザインの保護の拡充(意匠法第2条第2項)
・ 部分意匠制度の見直し(意匠法第3条の2)
・ 関連意匠制度の見直し(意匠法第10条等)
・ 秘密意匠の請求時期の追加(意匠法第14条)
・ 意匠権の存続期間の延長(意匠法第21条、第42条)
・ 意匠の類似の範囲の明確化(意匠法第24条第2項)
(3)商標法の一部改正
・ 小売業及び卸売業の商標の保護の拡充(商標法第2条第2項)